CVD金刚石(化学气相沉积金刚石)
半导体激光组件，功率晶体管衬底散热器
CVD金刚石是通过化学气相沉积法(CVD)获得的不含粘结剂的多晶金刚石。它允许形成各种金属化薄膜，用于芯片安装和线粘接。
| 材料 | 特性 | 平均线性热膨胀系数 保留时间~ 100℃(ppm / K) |
热导率[W/(m·K)] |
|---|---|---|---|
| cvd金刚石 | 这是一个由CVD方法(化学气相沉积)生产的0.1至0.4毫米的金刚石散热器。 | 2．3 | ＞1000 |
CVD金刚石是通过化学气相沉积法(CVD)获得的不含粘结剂的多晶金刚石。它允许形成各种金属化薄膜，用于芯片安装和线粘接。
| 材料 | 特性 | 平均线性热膨胀系数 保留时间~ 100℃(ppm / K) |
热导率[W/(m·K)] |
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| cvd金刚石 | 这是一个由CVD方法(化学气相沉积)生产的0.1至0.4毫米的金刚石散热器。 | 2．3 | ＞1000 |